当全球半导体产业还在为DUV光刻机的天价与封锁焦头烂额时，一条来自中国的技术突破，直接撕碎了海外垄断的壁垒。

近日，苏创投·天使母基金合作子基金投资企业璞璘科技联合力策科技，依托自主研发的真空气压式纳米压印技术，成功实现 8 英寸光芯片量产落地。这是国产首台可替代 DUV 光刻机的光芯片量产设备，一举完成产业化里程碑，更颠覆性地将光芯片制造成本压缩至传统 DUV 方案的1/10！

海外设备垄断锁死成本，国产光芯片深陷发展困局

在过往的光芯片制造领域，进口DUV光刻机是行业刚需，也是国内产业链无法绕开的成本痛点。整套海外DUV光刻设备不仅采购价格极其昂贵，同时面临着供货周期漫长、核心技术封锁、后期运维及配套耗材费用居高不下等多重问题，极大抬高了本土有源、无源光芯片的量产门槛。

长期的设备垄断，让国内光芯片制造高度依赖海外供应链，不仅导致光芯片单品成本居高不下，更直接制约了下游光模块、算力光互连等核心产业链的降本增效，让国内企业在全球市场竞争中始终面临成本被动的困境。

在行业迫切的国产化突围需求下，摆脱传统光刻工艺桎梏、探索全新微纳图形制造技术，成为整个光芯片产业突破发展的核心方向，而纳米压印技术凭借工艺精简、设备造价低廉、适配性强的独特优势，成为破解行业痛点的最优路径。

纳米压印技术量产落地，性能对标DUV实现断崖降本

此次璞璘科技落地的真空气压式纳米压印量产方案，并非实验室阶段性成果，而是经过完整产线验证、可规模化商用的成熟技术体系。依托全新的工艺逻辑，该技术顺利完成8英寸晶圆光芯片的批量制造，产品核心精度全面对标传统DUV光刻工艺，所有电学、光学性能参数均达到行业商用标准，完全满足终端产品的使用需求，目前已正式具备商业化批量供货能力。

相较于传统DUV光刻产线，这套国产技术方案实现了全方位突破，彻底摒弃了传统光刻设备昂贵的光学系统与复杂工序，整套设备投入、日常耗材使用及后期运维成本大幅缩减，最终将光芯片终端制造成本压缩至原有DUV工艺的10%，实现90%的成本降幅，从根源上解决了国产光芯片量产成本高、落地难的核心问题，彻底打破了海外设备对国内光芯片制造的成本垄断。

精准卡位算力风口，撬动光芯片全产业链国产替代

当前全球AI算力产业持续爆发，数据中心、高端AI服务器对高速光模块的需求持续激增，海量市场订单倒逼上游光芯片产业链快速完成降本增效、规模化量产升级。璞璘科技依托低成本、高性能的国产纳米压印工艺，国内光芯片设计与制造企业将彻底摆脱高价进口光刻设备的束缚，无需再受制于海外供应链的供货与价格限制，可快速推进中低端光芯片的规模化量产落地，同时加速攻坚部分高端光芯片的国产化替代。这一突破将自上而下赋能整条产业链，持续降低国内算力光互连、数据中心高速光模块的生产成本，提升国产光通信产业链的整体竞争力，助力国内企业在全球高速光芯片的市场竞争中抢占核心席位。

未来，随着璞璘科技纳米压印工艺的持续优化升级，该技术还将逐步延伸至功率器件、MEMS芯片等更多半导体细分领域，持续拓宽国产半导体低成本制造的边界。苏州天使母基金也将持续坚守硬科技投资初心，持续孵化更多硬核创新企业，以资本赋能产业，加速国内多品类半导体芯片的国产化进程，为本土半导体产业高质量发展持续注入新动能。

信息来源：璞璘科技微信公众号